白荊回廊-襄鈴
基礎(chǔ)屬性 | |||
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基礎(chǔ)減傷 | 15% | 暴擊率 | 5% |
射程 | 近 | ||
戰(zhàn)術(shù)移動 | 6秒冷卻 | ||
專精影響分支 | 增傷 | ||
位階 | 體質(zhì)加成 | 攻擊加成 | 專精加成 |
S0 | 64% | 87% | 97% |
S1 | 69% | 96% | 107% |
S2 | 72% | 100% | 112% |
S3 | 84% | 118% | 132% |
S4 | 93% | 132% | 147% |
S5 | 96% | 137% | 153% |
S6 | 98% | 141% | 157% |
體能特訓(xùn)加成 | |||
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項目 | 提升屬性 | 提升數(shù)值 | |
項目I | 階段I | 基礎(chǔ)體質(zhì) | 5% |
階段II | 基礎(chǔ)體質(zhì) | 5% | |
項目II | 階段I | 基礎(chǔ)攻擊 | 5% |
階段II | 基礎(chǔ)攻擊 | 10% | |
項目III | 階段I | 基礎(chǔ)專精 | 15% |
階段II | 基礎(chǔ)攻擊 | 5% |
漫巡初始技能 | ||
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針對削弱成功將敵人拉拽至身邊時,降低目標(biāo)30%攻擊力,并獲得1層【激勵】,該效果單次技能最多觸發(fā)3次;通過該方式獲得的激勵層數(shù)不超過4(等級1時)/ 7(等級2時)/10(等級3時)層激勵:每層激勵效果提升10%傷害,最多同時生效20層※標(biāo)注為“激勵技能”的刻印技能在滿足特定條件后,能夠為小隊中的所有同調(diào)者提供激勵效果傷害賜?!ち庑巍う列?div id="ixas86mq" class="br">提升10%(等級1時)/18%(等級2時)/25%(等級3時)額外傷害,位于【干燥環(huán)境】時,提升幅度翻倍。和【傷害賜福·菱形·β型】不疊加干燥環(huán)境:水元素地形蒸發(fā)速度加快,炎元素地形消失速度減緩敵人受到炎元素攻擊時,有幾率在腳下產(chǎn)生炎元素地形部分刻印技能在干燥環(huán)境下能發(fā)揮更強(qiáng)的效果 | ||
漫巡技能上限解鎖位階 | ||
位階 | 技能1 | 技能2 |
S0 | 1級? | - |
S1 | 1級? | 1級?↑ |
S2 | 1級? | 2級?↑ |
S3 | 2級?↑ | 2級? |
S4 | 3級?↑ | 2級? |
S5 | 3級? | 3級?↑ |
蝕刻初始屬性 | |||||
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位階 | 作為隊長時蝕刻初始屬性 | ||||
體質(zhì) | 防御 | 攻擊 | 專精 | 終端 | |
S0 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
S1 | 70 | 62 | 70 | 74 | 66 |
S2 | 110 | 86 | 110 | 122 | 98 |
S3 | 110 | 86 | 110 | 122 | 98 |
S4 | 130 | 98 | 130 | 146 | 114 |
S5 | 150 | 110 | 150 | 170 | 130 |
S6 | 150 | 110 | 150 | 170 | 130 |
穹頂技能 | |
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名稱 | 定班提速線++ |
效果 | 在高級研發(fā)室早班,耗時-10% |
拳焰式主動技能 | LV12【拳焰式·普通】技能形態(tài)普通狀態(tài)下可使用以2級[位移強(qiáng)度]抓取1200范圍內(nèi)的目標(biāo)至自身面前攻擊,造成2000%最終攻擊的物理傷害【拳焰式·狐擬態(tài)】技能形態(tài)「狐擬態(tài)」?fàn)顟B(tài)下可使用以3級[位移強(qiáng)度]抓取1600范圍內(nèi)的目標(biāo)至自身面前攻擊,造成3750%最終攻擊的炎元素傷害 |
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屏扇式主動技能 | LV12被動:每隔20秒可使用一次,使用后產(chǎn)生的指令冷卻時間極短【屏扇式·普通】技能形態(tài)普通狀態(tài)下可使用對扇形范圍內(nèi)5條路徑上的首個敵人造成1850%最終攻擊的物理傷害并以2級[位移強(qiáng)度]造成擊退效果,對擊退路徑上的其他敵人造成1150%最終攻擊的物理傷害【屏扇式·狐擬態(tài)】技能形態(tài)「狐擬態(tài)」?fàn)顟B(tài)下可使用對扇形范圍內(nèi)5條路徑上的首個敵人造成2313%最終攻擊的炎元素傷害并以2級[位移強(qiáng)度]造成擊退效果,對擊退路徑上的其他敵人造成1438%最終攻擊的炎元素傷害且沿途留下炎元素區(qū)域 |
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狐擬態(tài)異核技能 | LV6變身成「狐擬態(tài)」,所有傷害轉(zhuǎn)為炎元素傷害,攻擊提升120%,回復(fù)1次主動技能【拳焰式】使用次數(shù),并使所有技能獲得強(qiáng)化,持續(xù)45秒戰(zhàn)術(shù)家特性:開戰(zhàn)時異核充能增加50% |
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狐引戰(zhàn)斗特性 | 狐引戰(zhàn)斗特性普通攻擊射程200攻擊速度0.62次每秒單體攻擊面前的目標(biāo)造成192%最終攻擊的物理傷害.近戰(zhàn)范圍沒有敵人時,對遠(yuǎn)處一名敵人造成96%最終攻擊的物理傷害,并以1級[位移強(qiáng)度]抓取到面前(每3秒最多觸發(fā)一次)。戰(zhàn)斗特性可以戰(zhàn)術(shù)移動至全場任意可達(dá)位置會自動將抓取的目標(biāo)擊飛入周圍的可跌落點(diǎn)異核I級解鎖:施放異核技能【狐擬態(tài)】時,立即清空指令冷卻時間并激活主動技能【屏扇式】異核III級解鎖:異核技能【狐擬態(tài)】時施展主動技能【屏扇式】留下的炎元素區(qū)域擴(kuò)大 |
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升階 | |
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等級提升至 | 消耗材料 |
S1 | 1200 海隅點(diǎn)數(shù) 3 貧質(zhì)合金 |
S2 | 3000 海隅點(diǎn)數(shù) 8 原旋動力機(jī) 5 貧質(zhì)合金 |
S3 | 7200 海隅點(diǎn)數(shù) 5 次生裝置 3 儲源合金 5 蒼青薄片 |
S4 | 12000 海隅點(diǎn)數(shù) 8 多矩推進(jìn)器 5 儲源合金 3 靛石 |
S5 | 18000 海隅點(diǎn)數(shù) 9 多矩推進(jìn)器 4 穩(wěn)態(tài)合金 5 靛石 3 星砂 |
S6 | |
總計 | 41400 海隅點(diǎn)數(shù) 8 原旋動力機(jī) 5 蒼青薄片 8 貧質(zhì)合金 5 次生裝置 3 星砂 8 靛石 8 儲源合金 17 多矩推進(jìn)器 4 穩(wěn)態(tài)合金 |
技能1升級 | |
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等級提升至 | 消耗材料 |
LV2 | 600 海隅點(diǎn)數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 3 單級磁導(dǎo)插件 |
LV3 | 900 海隅點(diǎn)數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 4 火山雪 |
LV4 | 1200 海隅點(diǎn)數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 3 復(fù)色基粒 3 蒼青薄片 |
LV5 | 2400 海隅點(diǎn)數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 4 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 4 儲源合金 |
LV6 | 3600 海隅點(diǎn)數(shù) 150 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 6 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 6 二元磁導(dǎo)插件 |
LV7 | 6000 海隅點(diǎn)數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 8 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 2 卷礁 4 靛石 |
LV8 | 9000 海隅點(diǎn)數(shù) 250 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 10 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 |
LV9 | 12000 海隅點(diǎn)數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 5 訓(xùn)練芯片組·戰(zhàn)略 |
LV10 | 16000 海隅點(diǎn)數(shù) 400 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 6 訓(xùn)練芯片組·戰(zhàn)略 |
LV11 | |
LV12 | |
總計 | 51700 海隅點(diǎn)數(shù) 2000 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 28 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 11 訓(xùn)練芯片組·戰(zhàn)略 3 單級磁導(dǎo)插件 4 火山雪 3 蒼青薄片 6 二元磁導(dǎo)插件 3 復(fù)色基粒 4 靛石 4 儲源合金 2 卷礁 |
技能2升級 | |
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等級提升至 | 消耗材料 |
LV2 | 600 海隅點(diǎn)數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 3 蒼青薄片 |
LV3 | 900 海隅點(diǎn)數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 4 貧質(zhì)合金 |
LV4 | 1200 海隅點(diǎn)數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 3 次生裝置 3 火山雪 |
LV5 | 2400 海隅點(diǎn)數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 4 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 4 復(fù)色基粒 |
LV6 | 3600 海隅點(diǎn)數(shù) 150 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 6 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 6 靛石 |
LV7 | 6000 海隅點(diǎn)數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 8 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 2 穩(wěn)態(tài)合金 4 星砂 |
LV8 | 9000 海隅點(diǎn)數(shù) 250 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 10 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 |
LV9 | 12000 海隅點(diǎn)數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 5 訓(xùn)練芯片組·戰(zhàn)略 |
LV10 | 16000 海隅點(diǎn)數(shù) 400 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 6 訓(xùn)練芯片組·戰(zhàn)略 |
LV11 | |
LV12 | |
總計 | 51700 海隅點(diǎn)數(shù) 2000 基礎(chǔ)硅片·戰(zhàn)略 28 訓(xùn)練芯片·戰(zhàn)略 11 訓(xùn)練芯片組·戰(zhàn)略 3 火山雪 3 蒼青薄片 4 貧質(zhì)合金 3 次生裝置 4 星砂 4 復(fù)色基粒 6 靛石 2 穩(wěn)態(tài)合金 |


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