白荊回廊-劉兄
基礎(chǔ)屬性 | |||
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基礎(chǔ)減傷 | 0% | 暴擊率 | 5% |
射程 | 極遠 | ||
戰(zhàn)術(shù)移動 | 10秒冷卻 | ||
專精影響分支 | 增傷 | ||
位階 | 體質(zhì)加成 | 攻擊加成 | 專精加成 |
S0 | 52% | 94% | 85% |
S1 | 57% | 103% | 93% |
S2 | 59% | 108% | 97% |
S3 | 70% | 128% | 113% |
S4 | 78% | 143% | 125% |
S5 | 81% | 148% | 129% |
S6 | 83% | 152% | 133% |
體能特訓加成 | |||
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項目 | 提升屬性 | 提升數(shù)值 | |
項目I | 階段I | 基礎(chǔ)體質(zhì) | 5% |
階段II | 基礎(chǔ)體質(zhì) | 5% | |
項目II | 階段I | 基礎(chǔ)攻擊 | 10% |
階段II | 基礎(chǔ)攻擊 | 10% | |
項目III | 階段I | 基礎(chǔ)專精 | 10% |
階段II | 基礎(chǔ)專精 | 5% |
漫巡初始技能 | ||
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特殊減傷·對地同調(diào)者受到來自地面單位傷害時,該傷害額外減少30%~50%(等級1時)/45%~75%(等級2時)/54%~90%(等級3時)(【防御依賴】),每8秒最多觸發(fā)一次防御依賴:效果隨防御提升,1000點時達到最大值雷霆萬鈞場上雷元素的同調(diào)者人數(shù)達到2名或以上時,每6秒提升所有同調(diào)者1層【激勵】,最多提升4(等級1時)/7(等級2時)/10(等級3時)層;當場上雷元素的同調(diào)者人數(shù)少于2名時,移除所有同調(diào)者通過該方式獲得的【激勵】層數(shù)激勵:每層激勵效果提升10%傷害,最多同時生效20層※標注為“激勵技能”的刻印技能在滿足特定條件后,能夠為小隊中的所有同調(diào)者提供激勵效果 | ||
漫巡技能上限解鎖位階 | ||
位階 | 技能1 | 技能2 |
S0 | 1級? | - |
S1 | 1級? | 1級?↑ |
S2 | 1級? | 2級?↑ |
S3 | 2級?↑ | 2級? |
S4 | 3級?↑ | 2級? |
S5 | 3級? | 3級?↑ |
蝕刻初始屬性 | |||||
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位階 | 作為隊長時蝕刻初始屬性 | ||||
體質(zhì) | 防御 | 攻擊 | 專精 | 終端 | |
S0 | 40 | 40 | 40 | 40 | 40 |
S1 | 40 | 48 | 69 | 65 | 58 |
S2 | 40 | 64 | 126 | 116 | 94 |
S3 | 40 | 64 | 126 | 116 | 94 |
S4 | 40 | 72 | 155 | 141 | 112 |
S5 | 40 | 80 | 184 | 166 | 130 |
S6 | 40 | 80 | 184 | 166 | 130 |
穹頂技能 | |
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名稱 | 提速線++ |
效果 | 在初級研發(fā)室,耗時-10% |
閃光之躍主動技能 | LV12朝指定方向發(fā)射閃電,命中第一個目標后跳轉(zhuǎn)至半徑400范圍內(nèi)的另一個目標,造成5000%最終攻擊的雷元素傷害,最多命中5個目標(優(yōu)先命中不同的目標)每次造成的傷害遞減20%(對同一目標額外遞減20%),最多降低至原來的40%(對同一目標最多降低至原來的20%)自動技能【頌歌之證】達到階段III和階段V時增加1個命中目標上限 |
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頌歌之證自動技能 | LV12書寫頌歌,隨頌歌階段獲得永久的能力提升并回復(fù)1次主動技能【閃光之躍】的使用次數(shù)階段I:攻擊力提升23%階段II:基礎(chǔ)攻擊速度提升23%階段III:專精提升23%階段IV:基礎(chǔ)攻擊速度額外提升23%階段V:特性觸發(fā)率提高50% |
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真理之霆異核技能 | LV6使用閃電連續(xù)攻擊目標點半徑350范圍內(nèi)的所有敵方單位,總計造成4800%最終攻擊的雷元素傷害 |
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無巧不成書戰(zhàn)斗特性 | 無巧不成書戰(zhàn)斗特性普通攻擊射程1200攻擊速度0.59次每秒單體 對空向當前目標發(fā)射雷電造成170%最終攻擊的雷元素傷害戰(zhàn)斗特性普通攻擊和技能命中目標時有20%的幾率額外造成200%專精的雷元素傷害異核I級解鎖:進入戰(zhàn)場時,獲得一層【頌歌之證】效果(該提升視為自身技能施放獲得的永久屬性提升)異核III級解鎖:普通攻擊和技能命中目標時有30%的幾率額外造成200%專精的雷元素傷害 |
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升階 | |
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等級提升至 | 消耗材料 |
S1 | 1000 海隅點數(shù) 2 貧質(zhì)合金 |
S2 | 2500 海隅點數(shù) 6 單級磁導插件 4 原旋動力機 |
S3 | 6000 海隅點數(shù) 4 二元磁導插件 2 次生裝置 4 自旋因子 |
S4 | 10000 海隅點數(shù) 6 復(fù)合磁導插件 4 次生裝置 2 復(fù)色基粒 |
S5 | 15000 海隅點數(shù) 8 復(fù)合磁導插件 3 多矩推進器 4 復(fù)色基粒 2 星砂 |
S6 | 20000 海隅點數(shù) 2 極疊磁導插件 8 多矩推進器 3 光子質(zhì) 4 星砂 |
總計 | 54500 海隅點數(shù) 6 單級磁導插件 4 原旋動力機 4 自旋因子 2 貧質(zhì)合金 4 二元磁導插件 6 次生裝置 6 星砂 6 復(fù)色基粒 14 復(fù)合磁導插件 11 多矩推進器 3 光子質(zhì) 2 極疊磁導插件 |
技能1升級 | |
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等級提升至 | 消耗材料 |
LV2 | 600 海隅點數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·遠程 3 自旋因子 |
LV3 | 900 海隅點數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·遠程 4 單級磁導插件 |
LV4 | 1200 海隅點數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·遠程 3 星砂 3 原旋動力機 |
LV5 | 2400 海隅點數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·遠程 4 訓練芯片·遠程 4 靛石 |
LV6 | 3600 海隅點數(shù) 150 基礎(chǔ)硅片·遠程 6 訓練芯片·遠程 6 復(fù)色基粒 |
LV7 | 6000 海隅點數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·遠程 8 訓練芯片·遠程 2 復(fù)合磁導插件 4 次生裝置 |
LV8 | 9000 海隅點數(shù) 250 基礎(chǔ)硅片·遠程 10 訓練芯片·遠程 |
LV9 | 12000 海隅點數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·遠程 5 訓練芯片組·遠程 |
LV10 | 16000 海隅點數(shù) 400 基礎(chǔ)硅片·遠程 6 訓練芯片組·遠程 |
LV11 | |
LV12 | |
總計 | 51700 海隅點數(shù) 2000 基礎(chǔ)硅片·遠程 28 訓練芯片·遠程 11 訓練芯片組·遠程 4 單級磁導插件 3 原旋動力機 3 自旋因子 4 次生裝置 3 星砂 6 復(fù)色基粒 4 靛石 2 復(fù)合磁導插件 |
技能2升級 | |
---|---|
等級提升至 | 消耗材料 |
LV2 | 600 海隅點數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·遠程 3 原旋動力機 |
LV3 | 900 海隅點數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·遠程 4 蒼青薄片 |
LV4 | 1200 海隅點數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·遠程 3 儲源合金 3 單級磁導插件 |
LV5 | 2400 海隅點數(shù) 100 基礎(chǔ)硅片·遠程 4 訓練芯片·遠程 4 星砂 |
LV6 | 3600 海隅點數(shù) 150 基礎(chǔ)硅片·遠程 6 訓練芯片·遠程 6 次生裝置 |
LV7 | 6000 海隅點數(shù) 200 基礎(chǔ)硅片·遠程 8 訓練芯片·遠程 2 黛晶 4 二元磁導插件 |
LV8 | 9000 海隅點數(shù) 250 基礎(chǔ)硅片·遠程 10 訓練芯片·遠程 4 穩(wěn)態(tài)合金 6 星砂 |
LV9 | 12000 海隅點數(shù) 300 基礎(chǔ)硅片·遠程 5 訓練芯片組·遠程 |
LV10 | 16000 海隅點數(shù) 400 基礎(chǔ)硅片·遠程 6 訓練芯片組·遠程 |
LV11 | |
LV12 | |
總計 | 51700 海隅點數(shù) 2000 基礎(chǔ)硅片·遠程 28 訓練芯片·遠程 11 訓練芯片組·遠程 3 單級磁導插件 3 原旋動力機 4 蒼青薄片 4 二元磁導插件 6 次生裝置 10 星砂 3 儲源合金 2 黛晶 4 穩(wěn)態(tài)合金 |


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